新しい コーティング＆ラミネート 場所 日本

Ion Etching System

シリーズ: IEシリーズ | サイズ: 幅2,300mm | 重量: D 1,400mm | ガス: 高さ2,350mm | イオン銃: 約1,600kg | 最大消費電力: Ar、O2 | カーボン: 4、6、8ソース | 窒化: 19-31kVA | メタル: ダイヤモンドコーティング、DLC

シンナーリサイクルシステム

タンク容量: 12リットル | 凝集方式: 空冷ラジエーター方式 | 蒸留速度: 3〜4.5リットル/h | 蒸留温度: 50〜200℃ | 電源: AC200V単相1kw | 機械寸法: L 600 × W 530 × H 1,620 | 重量: 21kg | 使用空気圧: 0.7〜1.0Mpa | ポンプ: エアー駆動式テフロン製ダイヤフラムポンプ | ユニット容量: 40リットル | 機械寸法（外径）: 510mm

スプレーガンクリーナー

タンク容量: 35L | 作動用圧力: 5-12bar、100/min | 本体重量: 24kg | 洗浄ブラシ水量: 1.5-2L/min | 洗浄ガン水量: 1.5-2L/min | 本体寸法: 直径590×1220mm | 標準付属品: メインフィルター1枚、 プライマリーフィルター1枚

Diamond Coating Polishing Technology

Diamond Coating System

システム/メソッド: ホットフィラメントCVD | 装置寸法(mm): L2,480×W1,320×H2,240 | チャンバー寸法(mm): L620×W600×H500 | 取り付け可能サイズ(mm): 工具：φ0.5～φ20 L200平板：φ250 t30 | 基材: 超硬、セラミックス、耐熱材料 | コーティング長さ (mm): 50 | 電源: 3相200V 50kVA Aタイプアース接続 | クーラント: 2...

Roll to Roll Drying Equipment

電極情報: 直径 - 最大700 mm / 重量 - 最大450kg | 温度: 空のチャンバー内の温度 - 40℃ ~ 180℃ 土 3℃ | 生産能力: 3,600m/時 | 緊張感: 20～200N | デフォルト設定: 巻出し自動タレットユニット インフィーダーユニット プレッシャーブロックユニット 真空チャンバー - 加熱/冷却 プレッシャーブロックユニット アウトフィーダーユニット 巻戻し自動タレットユニット...

Inline type sputtering and plasma polymerization with 5 chambers

Batch type sputtering + plasma polymerization system

Batch type vapor deposition + plasma polymerization system

基板サイズ（ジグなどを含む）: φ540×1,500mm 2軸

Linear Ion Source

Plasma Ion Processing System

Skd11: 697 | スタバックス: 595 | Sus630: 446 | Sus440c: 653 | サス304: 213