シリアルno.: N/A | 数量: 1 | 設備詳細: チラー | 装置: チラー
ウエハサイズ: 6" | プロセス: 2 MARK II | 出荷: EXW
ウエハサイズ: 12" | プロセス: エッチング | 出荷: EXW
ウエハサイズ: 8" | プロセス: ディーエックスエル | 出荷: EXW
ウエハサイズ: 8" | プロセス: デルタテオス3ch、SPUTTER 1ch | 出荷: EXW
ウエハサイズ: 6" | プロセス: デルタ・テオス | 出荷: EXW
ウエハサイズ: 8" | プロセス: デルタTEOS 3ch+スパッタ1ch | 出荷: EXW
ウエハサイズ: 8" | プロセス: ディーエックスエル | チェンバー: ディーエックスエル | 出荷: EXW
ウエハサイズ: 8"
ウエハサイズ: 6
ウエハサイズ: 6"
ウエハサイズ: 8" | プロセス: CVD | チェンバー: CVD、ETCH | 出荷: EXW
ウエハサイズ: 12" | プロセス: CVD | 出荷: EXW
ウエハサイズ: 8" | チェンバー: 2+1c/h (2cvd + 1etch)