新品 Nanbei NB450 場所 鄭州市, 河南省, 中国
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仕様
説明
ダブルステーション不活性ガス保護チャンバーラボ用真空グローブボックス
この一連の装置は主に熱蒸着/マグネトロンスパッタリングの機能を実現します。実験室および初期の工業パイロット生産における元素物質、酸化物、誘電体、半導体化合物、高温超伝導膜、金属有機発光膜などの調製に適しています。
塗装方法：抵抗蒸着＋グローブボックス／マグネトロンスパッタ塗装＋グローブボックス／抵抗蒸着＋マグネトロンスパッタ＋グローブボックス
膜の種類と特徴：単体、酸化物、誘電体、半導体化合物膜／金属、非金属膜。各種有機発光膜、生産ラインのティーチングや前工程テスト・単体膜、半導体膜、有機膜、酸化膜、反応膜、誘電体膜、高温超電導膜、サーメット膜、光学膜としても使用可能映画など
真空槽サイズ：φ450×h400mm
真空槽の構造形式：縦型前扉構造、後方排気方式、手動プッシュプル式
極真空度：6.6×10-5pa
真空システム構成：分子ポンプ＋メカニカルポンプ
排気速度: 大気中から 10-3 PA まで排気、20 分以下 (分子ポンプ) / 50 分 (拡散ポンプ)
フィルムの均一性: ≤± 5%
電極構造：水冷電極
ワークベーキング温度：室温～500℃まで調整・制御可能
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