フォトレジストは、フォトリソグラフィーやフォトエッチングなどのプロセスで、表面にパターン化されたコーティングを形成するために使用される感光性材料です。特定の波長の光にさらされると、化学変化が起こり、露光された部分または未露光部分の選択的な除去が可能になります。これは、半導体およびマイクロエレクトロニクスの製造、およびプリント基板の作成において非常に重要です。
フォトレジストの種類(ポジティブまたはネガティブ)、光に対する感度、解像度、および基板や現像液との互換性を考慮してください。
フォトレジストは、涼しく暗い場所で一定の温度で保管してください。光や湿気から遠ざけて、その感度を維持する必要があります。
適切な個人保護具(手袋やゴーグルなど)を着用してください。良好な換気を確保し、直接肌に触れないようにしてください。