中古 Semi Processing Platform ウェットステーション 場所 東京都, 日本

ング、高い生産性と柔軟性を持つように設計されております。
RENA
の
Semi Processing Platform
はお客様の要求によって調整できる柔軟性を持ち、最大の生産品質と量産性をもたらします。
特筆すべきは、フレキシブルキャリアレスハンドリングシステムで、厚みの異なるウェハーを同時に加工することが可能です。
プロセ
ス
アプリケーション
エッチング（シリコン、メタル、オキサイド、ナイトライド等）
ソルベント（メタルリフトオフ、レジスト剥離、
BEOL
洗浄等）
洗浄（
SPM,SC1, SC2, DFH/O3
等）
乾燥
プロセス
コントロール
薬液
/
オゾン濃度モニター
純粋比抵抗、薬液コントロール
基板材質
シリコン、
SiC, GaAs, GaN, InP, Glass, Sappire
膜厚
筐体
PP
、
FM4910
相当、ステンレス枠
寸法
幅
2200mm
高さ
3600mm (
フローボックス含む）
モジュール寸法
ウェハーサイズ
200 mm / 8
”
300 mm / 12
”
2
槽　　　　　　　　　1400 mm　　　　 1600 mm
オプション
全自動ローダーアンローダーバッファーステーション
カスタムプロセスキャリア
薬液集中供給システム